磁控共溅射Zr-Ti合金薄膜的织构控制研究

摘要：

采用磁控共溅射镀膜的方法,在不同温度和不同成分的条件下于硅基片上镀制了Zr-Ti二元合金薄膜,利用XRD,FE-SEM,HRTEM&SAD,AFM等分析研究了该体系的织构形成与演变规律,用EDS和ICP-AES测定样品成分.结果表明:获得的薄膜呈现(0002)织构,织构度在室温到523 K呈单调增加,温度更高时,多晶组织呈现更明显;薄膜的高分辨电镜观察揭示了织构组织的竞争与重构生长,表明该体系的生长模式与结构区域模型相吻合;可以通过控制镀膜过程中的基片温度与合金熔点的比值(Ts/Tm)来控制薄膜的织构.

关键词： 硅基片 磁控共溅射镀膜工艺 锆钛合金薄膜 织构组织 控制技术

作者: 王炜鹏 谢拯 战鹏 李正操 张政军

作者单位: 清华大学材料科学与工程系,北京100084

会议类型: 国内会议

会议名称: 2012年中国腐蚀与防护学会能源工程专业委员会学术交流会暨2012年能源材料学术交流会议

会议地点: 黄山

会议语种:中文

页码: 43-49

在线出版日期: 2012-07-27（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）