用大气开放式MOCVD方法在玻璃基片上制备TiO2薄膜的研究

摘要：

采用大气开放式金属有机化合物化学气相沉积方法(AP-MOCVD),以四异丙醇钛(TTIP)为原料,在不同的实验条件下在玻璃基片上制备TiO2薄膜.当气化室温度为140℃,基片温度为350℃时,玻璃基片上生长的薄膜XRD谱中只出现了锐钛矿相(200)晶面的衍射峰,表明此时薄膜高度取向.通过SEM观察高度取向的TiO2薄膜表面出现四边形的微结构.

关键词： 二氧化钛薄膜 金属有机化合物化学气相沉积法 玻璃基片 制备工艺

作者: 李丽娜 谷景华 张跃 路浩天

作者单位: 北京航空航天大学材料学院,北京100083

会议类型: 国内会议

会议名称: 2006航空宇航科学与技术全国博士生学术论坛

会议地点: 北京

会议语种:中文

页码: 96-99

在线出版日期: 2006-09-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）