磁控溅射法制备玻璃基Ti/TiO2装饰膜及其性能研究

摘要：

　　在普通玻璃衬底上采用磁控溅射技术沉积了Ti/TiO2双层薄膜,得到了不同色彩的装饰膜.通过光学显微镜测试了薄膜表面形貌,分析了不同工作气压和溅射功率下Ti膜和TiO2膜表面孔洞产生的原因；利用UV-Vis分光光度计测量了薄膜的光学性能,发现单层Ti膜随着膜层厚度的增加,透射率降低、反射率先增加后降低,薄膜吸收率提高.根据TiO2薄膜的透射曲线峰值,计算得到TiO2薄膜折射率约为2.24.SEM分析Ti膜和TiO2膜沉积速率分别为9nm/min、2.67nm/rmin.XRD分析表明,Ti/TiO2薄膜均为非晶结构.通过水、盐溶液浸泡和煮沸后发现,Ti/TiO2薄膜色彩无明显变化,具有较好的理化性能.

关键词： Ti/TiO2装饰膜 生产工艺 磁控溅射技术 性能表征

作者: 孙杰 赵青南 董玉红

作者单位: 武汉理工大学硅酸盐建筑材料国家重点实验室,湖北武汉430070 武汉理工大学硅酸盐建筑材料国家重点实验室,湖北武汉430070;江苏秀强玻璃工艺股份有限公司,江苏宿迁223800 江苏秀强玻璃工艺股份有限公司,江苏宿迁223800

会议类型: 国内会议

会议名称: 2013全国玻璃科学技术年会

会议地点: 洛阳

会议语种:中文

页码: 94-100

在线出版日期: 2013-05-18（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）