玻璃基TiN及Ti/TiN薄膜的磁控溅射法制备及其显微硬度

摘要：

　　用磁控溅射方法在玻璃基片上制备了TiN及Ti/TiN薄膜，研究了氮气与(氩)气流量比、沉积时间、靶功率和基片台温度对TiN及Ti/TiN薄膜显微硬度的影响，用XRD对薄膜的物相进行了分析，用SEM观察了薄膜的表面形貌，制备出了显微硬度/HV为1097.433的Ti/TiN薄膜.讨论了Ti/TiN薄膜显微硬度提高机理.

关键词： Ti/TiN薄膜 磁控溅射法 制备工艺 显微硬度

作者: 赵青南 武刚 董玉红

作者单位: 武汉理工大学硅酸盐建筑材料国家重点实验室,湖北武汉430070;江苏秀强玻璃工艺股份有限公司,江苏宿迁223800 武汉理工大学硅酸盐建筑材料国家重点实验室,湖北武汉430070 江苏秀强玻璃工艺股份有限公司,江苏宿迁223800

会议类型: 国内会议

会议名称: 2013全国玻璃科学技术年会

会议地点: 洛阳

会议语种:中文

页码: 101-103,107

在线出版日期: 2013-05-18（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）