不同镀膜方式制备非晶碳膜的结构与性能比较
本文采用离子源辅助磁控溅射法(IBAD)、离子束沉积法(IBD)与等离子体增强化学气相沉积法(PECVD)分别在平板玻璃表面沉积了非晶碳膜。测试分析了不同制备方法获得的非晶碳膜的拉曼光谱结构、透射光谱、消光系数、摩擦系数与磨损形貌。结果表明，采用PECVD法的零电位模式制备的非晶碳膜具有最优的可见光透过性与最低的消光系数，而PECVD法的负电位模式制备的非晶碳膜具有最佳的耐磨性能。最后，结合非晶碳膜的结构与成分解释了不同制备方法获得的非晶碳膜的光学与力学性能差别。
玻璃工业 平板玻璃 非晶碳膜 镀膜方式 制备工艺 性能分析
孙瑶 黄星烨 王箭 汪洪
中国建筑材料科学研究总院,国家玻璃深加工工程技术中心,绿色建筑材料国家重点实验室,北京100024
国内会议
洛阳
中文
116-121
2013-05-18（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）