直流反应磁控溅射制备高折射率TiO2薄膜的工艺参数研究

摘要：

　　用直流反应磁控溅射法在玻璃基片上制备出高折射率TiO2薄膜。研究了溅射功率、基片温度以及氢气氧气流量比对薄膜的沉积速率以及折射率的影响。同时离线在氧气氛炉中对薄膜进行退火，分析热处理温度对于薄膜折射率的影响。结果表明溅射功率110W、基片温度150℃、氧氢流量比例15％时薄膜的沉积速率较高、折射率最大。随着热处理温度的上升，薄膜由非晶态向锐钛矿转变，同时折射率增大。

关键词： 二氧化钛薄膜 制备技术 工艺参数 直流反应磁控溅射法

作者: 谢威 赵青南 董玉红

作者单位: 武汉理工大学硅酸盐建筑材料国家重点实验室,湖北武汉,430070 武汉理工大学硅酸盐建筑材料国家重点实验室,湖北武汉,430070;江苏秀强玻璃工艺股份有限公司,江苏宿迁223800 江苏秀强玻璃工艺股份有限公司,江苏宿迁223800

会议类型: 国内会议

会议名称: 2013全国玻璃科学技术年会

会议地点: 洛阳

会议语种:中文

页码: 122-125

在线出版日期: 2013-05-18（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）