SiCxOy阻挡层对SnO2∶F薄膜结构和性能的影响
SnO2∶F薄膜具有较好的光电特性,是低辐射镀膜玻璃、透明导电薄膜等的理想膜层材料。利用常压化学气相沉积法,在移动玻璃的表面浮法在线连续镀制了SiCxOy过渡层和SnO2∶F薄膜。通过XRD、SEM、TEM等测试手段,分析了SiCxOy过渡层的微结构以及其对SnO2∶F膜层结构与性能的影响。结果表明,SiCxOy渡层为一种纳米Si颗粒镶嵌在非晶SiC-O网络中的结构,它的引入,有利于SnO2∶F薄膜(200)方向上的取向生长以及柱状生长,与SnO2∶F有较好的界面结合,同时提高了镀膜玻璃的光电性能和低辐射性能,是一种理想的阻挡层材料。
SnO2:F薄膜 结构分析 性能表征 制备工艺
高倩 李铭 韩高荣
浙江大学材料科学与工程学系,硅材料重点实验室,浙江杭州310027
国内会议
洛阳
中文
126-129
2013-05-18（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）