玻璃基ATO/SiO2减反射抗静电双功能薄膜的研究

摘要：

　　以无机金属盐SnCl2×H2O、SbCl3,正硅酸乙酯、无水乙醇为原料,采用溶胶凝胶浸渍提拉法在普通玻璃基片上制备了单层ATO(Sb掺杂SnO2)-SiO2、双层ATO/ATO-SiO2减反射抗静电双功能薄膜.用紫外可见近红外分光光谱仪、绝缘电阻测试仪对薄膜进行了光电性能的表征.结果表明,单层膜的透过率最高为92.67％,反射率为6.78％,表面电阻在108W的数量级；双层膜的最高透过率达到93.57％,反射率为5.15％,表面电阻达到106W的数量级；ATO膜层厚度的增加可以提高薄膜的抗静电性能.

关键词： 减反射抗静电双功能薄膜 制备工艺 光电性能 普通玻璃基片

作者: 侯少红 赵青南 董玉红 赵修建

作者单位: 武汉理工大学硅酸盐建筑材料国家重点实验室,湖北武汉430070 江苏秀强玻璃工艺股份有限公司,江苏宿迁223800

会议类型: 国内会议

会议名称: 2013全国玻璃科学技术年会

会议地点: 洛阳

会议语种:中文

页码: 138-141

在线出版日期: 2013-05-18（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）