硅团簇束流淀积的分形生长

摘要：

利用低能中性团簇束流淀积（LECBD）方法制备硅团簇薄膜，观察到Si团簇特殊的分形生长现象，并对此非平衡动力学过程作初步的探讨。

关键词： Si团蔟 LECBD 分形生长

作者: 陈平平 王广厚

作者单位: 大学固体徽结构国家重点实验室(南京)

会议类型: 国内会议

会议名称: 第九届全国原子与分子物理学术会议

会议地点: 河南新乡

会议语种:中文

页码: 269～270

在线出版日期: 1998-07-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）