硅基底和金刚石基底上沉积ZnO薄膜的工艺研究

摘要：

　　本文采用射频磁控溅射方法在Si (001)基片上和金刚石衬底上沉积了Zn0薄膜，研究了氢氧比和退火温度对Zn0薄膜微观结构及性能的影响，分析对比了Si基底和金刚石基底对Zn0薄膜结晶质量的影响。利用X射线衍射分析(XRD)和原子粒(力)显微镜(AFM)对不同条件下生长的Zn0薄膜结构、形貌和界面状态进行了表征和分析。其中晶格取向由XRD测得，表面形貌由AFM测得。

关键词： 氧化锌薄膜 沉积工艺 射频磁控溅射方法 基底材料

作者: 陈颖慧

作者单位: 中国工程物理研究院北京研究生部,北京100088

会议类型: 国内会议

会议名称: 2011’全国半导体器件产业发展、创新产品和新技术研讨会

会议地点: 昆明

会议语种:中文

页码: 35-38

在线出版日期: 2011-08-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）