双面擦片在抛光片最终清洗上的应用

摘要：

　　本文通过对双面擦片工作原理及质量影响因素的分析，并对比两种不同的最终清洗方法，导出双面擦片在一定的条件下是一种可替代槽浸式最终清洗的有效方法。

关键词： 抛光片 清洗工艺 双面擦片 效果评估

作者: Shi Ge 史舸 Wang Wen 王文 Wang Wenwei 王文卫 Qi Xudong 齐旭东 Xiong Chenglei 熊诚雷

作者单位: MCL Electronic Materials Ltd,Luoyang 471009,China 麦斯克电子材料有限公司,河南洛阳471009

会议类型: 国内会议

会议名称: 2011’全国半导体器件产业发展、创新产品和新技术研讨会

会议地点: 昆明

会议语种:中文

页码: 59-62

在线出版日期: 2011-08-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）