会议专题

SOI ESD保护器件研究

  本文具体分析了体硅SCR(晶闸管)和SOI SCR的抗静电特性,利用软件Sentaurus对埋氧层3μm.顶层硅1.5μm的SOI衬底上的SCR进行了工艺和性能仿真,仿真结果达到了4.5 kV的抗静电能力,符合目前人体模型的标准2 kV。研究发现,注入剂量(9×1013~8×1014cm-2)增加会引起触发电压减小,维持电压升高:Trench长度(0.8~1.1μm)增加,器件触发电压几乎不变,维持电压降低;场氧化层长度(2~4.5μm )增加,触发电压和维持电压均增加。

集成电路 抗静电特性 体硅技术 性能仿真

夏超 王中健 何大伟 徐大伟 张有为 程新红 俞跃辉

中国科学院上海微系统与信息技术研究所,信息功能材料国家重点实验室,上海200050

国内会议

2011’全国半导体器件产业发展、创新产品和新技术研讨会

昆明

中文

430-434

2011-08-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)