会议专题

Si基热氧化Si<,1-x-y>Ge<,x>C<,y>薄膜的室湿紫外光致发光特性

Si基 Si<,1-x-y>Ge<,x>C<,y>薄膜 紫外光致发光特性

程雪梅 刘夏冰 朱顺明 罗志云 江若琏

南京大学物理系

国内会议

第十二届全国半导体物理学术会议

上海

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1999-10-18(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)