InP基高电子迁移率晶体管(HEMT)的模拟与优化
InP基高电子迁移率晶体管(HEMT),以其优良的特性成为微波/毫米波高频段低噪声有源器件的主要选择之一,本文根据异质结构参数设计优化方法对InP基HEMT器件进行模拟并优化,并结合国内现有化合物半导体材料生长和器件工艺水平,得到了一组优化的InP基HEMT异质结构设计参数。模拟结果显示,器件的跨导大于800mS/mm,最大饱和电流350mA/mm,沟道电流截止电压-0.6V,电流增益截止频率196GHz,器件的DC与RF特性充分显示了器件在微波/毫米波高频段应用上的巨大潜力。
高电子迁移率晶体管 磷化铟基 异质结构 优化设计
Zhiming Wang 王志明 Xiaobin Luo 罗晓斌 Weihua Yu 于伟华 Xin Lv 吕昕
School of Information and Electronics, Bering Institute of Technology, Beijing,100081, China 北京理工大学信息与电子学院,北京 100081
国内会议
开封
中文
302-304
2012-11-07(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)