微光刻技术及设备研究进展

摘要：

　　介绍光刻技术分类及工作原理，国际国内光刻设备研究动态，国际国内差距，分析存在问题；讨论光刻设备涉及的关键技术：紫外和深紫外投影物镜、精密工件台步进与同步扫描技术、对准与套刻技术、焦面检测与调平技术、紫外和深紫外照明技术、压印技术、数字光刻技术、双面套刻技术、深曝光技术等；中科院光电所开发的相应设备的技术性能、配置、外观，包括光学投影光刻、深层光刻、双面光刻、数字光刻、大面积光刻、压印光刻等，以及下一步研究规划。

作者: 胡松

作者单位: 中国科学院光电技术研究所 微电子装备和生物芯片仪器研究室 四川省成都市双流350信箱,610209

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十七届全国化合物半导体材料微波器件和光电器件学术会议

会议地点: 开封

会议语种:中文

页码: 537-537

在线出版日期: 2012-11-07（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）