电活性铁氰化铜/钴复合膜的制备及其电化学性能
本文采用阴极电沉积法在铂基体上制备了电活性铁氰化铜/钴(Cu/CoHCF)复合膜，在0.1mol/L KNO3溶液中采用循环伏安法并结合电化学石英晶体微天平(EQCM)技术考察了复合膜的电化学行为以及循环寿命，并在0.1mol/L(KNO3+CsNO3)混合溶液中测定了不同混合浓度下复合薄膜的伏安特性曲线，分析了薄膜对Cs+/K+的选择性。实验表明，随着循环沉积次数的增加复合膜电极的离子交换容量在稳定增加，且循环伏安图中同时出现代表单一CuHCF膜和CoHCF膜阳极电流峰的双阳极峰；铁氰化铜/钻复合膜不是单一CuHCF膜和CoHCF膜的简单组合，具有良好的离子交换行为及选择性，且循环寿命好于单膜，具备电化学控制离子分离膜的初步特征。
复合膜 制备工艺 循环伏安法 电化学行为
李慧 郝晓刚 段东红 张忠林 马旭莉 刘世斌
太原理工大学洁净化工研究所,山西太原030024
国内会议
西安
中文
761-761
2008-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）