会议专题

基于全流程优化的亚表面缺陷控制技术研究

  本文讨论基于传统光学加工获得最优的残余亚表面缺陷的技术流程,提高了光学加工质量和效率,结合后续的MRF加工,最终获得光学元件的亚表面缺陷数量下降了数个数量级。

光学元件 亚表面缺陷 控制技术 全流程优化

杨李茗 欧光亮

中国工程物理研究院激光聚变研究中心

国内会议

第10届全国光电技术学术交流会

北京

中文

162-163

2012-06-12(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)