基于全流程优化的亚表面缺陷控制技术研究

摘要：

　　本文讨论基于传统光学加工获得最优的残余亚表面缺陷的技术流程，提高了光学加工质量和效率，结合后续的MRF加工，最终获得光学元件的亚表面缺陷数量下降了数个数量级。

关键词： 光学元件 亚表面缺陷 控制技术 全流程优化

作者: 杨李茗 欧光亮

作者单位: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心

会议类型: 国内会议

会议名称: 第10届全国光电技术学术交流会

会议地点: 北京

会议语种:中文

页码: 162-163

在线出版日期: 2012-06-12（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）