半导体工业用含氟清洗气体研究进展

摘要：

　　本文阐述了传统半导体工业用含氟清洗气体的主要品种及对环境的影响。并通过技术创新，研发出新一代含氟清洗气体，其GWP值低甚至为零，清洗效率高，后处理简单。代表性的新一代含氟清洗气体是COF2，其他如F2,ClF3等。并对COF2、ClF3的研发及效果进行了概述。

关键词： 含氟清洗气体 半导体工业 污染防治 清洁效率

作者: 李盛姬 柳彩波 刘武灿 张建君

作者单位: 浙江省化工研究院有限公司

会议类型: 国内会议

会议名称: 2012中国氟化工技术与应用发展研讨会暨重庆市氟化工产业园推介会

会议地点: 重庆

会议语种:中文

页码: 75-78

在线出版日期: 2012-11-07（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）