光致抗蚀剂的研究发展

摘要：

光致抗蚀剂是一类光敏高分子聚合物,受到光能照射时,分子内部发生聚合或分解反应,生成对某些溶剂可溶或不可溶的物质,微细加工中可利用这种特性来得到所需要的几何图形.抗蚀剂是进行微细图形加工,制造微电子器件和印刷线路板的一种关键化学品.本文主要介绍光致抗蚀剂的研究发展情况.

关键词： 感光材料 光致抗蚀剂 光刻技术 图形加工 性能表征

作者: 周立国

作者单位: 江苏广信感光新材料股份有限公司

会议类型: 国内会议

会议名称: 2012年第十三届中国辐射固化年会

会议地点: 贵阳

会议语种:中文

页码: 274-277

在线出版日期: 2012-05-16（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）