ZnO/M/ZnO金属介质多层膜的慢正电子研究

摘要：

　　由脉冲激光沉积法制备了一系列ZnO/Cu/ZnO和ZnO/Al/ZnO金属介质多层透明导电膜。样品的形貌和结晶状态通过了扫描电子显微镜和X射线衍射法来获得。同时还使用了慢正电子注入谱来分析样品的微结构。中间金属介质层比较薄的样品在退火后，其S-E曲线的变化规律与其他样品有着明显的不同。结晶性质，金属与ZnO的相互扩散及金属层的团聚等因素都影响着多层膜的光电性质。合适的退火条件能使多层膜质量提高从而获得低电阻率及高光透过率的多层透明导电膜。

关键词： 导电膜 金属介质 慢正电子 脉冲激光沉积

作者: 楼捷 叶邦角 翁惠民 杜淮江

作者单位: 中国电力投资公司高级培训中心,上海,200240;中国科学技术大学近代物理系,合肥,230026 中国科学技术大学近代物理系,合肥,230026

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十一届全国正电子湮没谱学会议

会议地点: 成都

会议语种:中文

页码: 24-30

在线出版日期: 2012-09-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）