孪生磁控溅射制备氮化铬涂层的研究
本文利用孪生磁控溅射技术制备不同氮含量的氮化铬涂层,并分析了N2流量对涂层组织、结构性能以及耐腐蚀性能的影响.试验设备采用自行研制的MSP-1000复合离子镀膜机,配置了四对孪生磁溅射靶及对称双极性脉冲中频磁控溅射电源.实验通过改变N2流量来改变涂层中的氮含量,四组实验通入不同的氮氩含量(体积含量),分别为33％,50％,67％,100％,编号分别为1＃,2＃,3＃,4＃.结果表明：增加氮流量对薄膜的性质有重要的影响,如CrN生长取向随着N2流量的增加CrN择优取向由<111>转变为<200>,N2流量较低时1＃涂层中出现了Cr2N.在N2流量较低(1＃)和较高时(4＃)腐蚀电位分别为-0.17V和-0.33V,极大地提高了涂层的防腐性能.
中频磁控溅射 氮化铬涂层 耐腐蚀性能 腐蚀电位 X射线衍射
尹星 沈丽如 金凡亚 但敏 许泽金
核工业西南物理研究院,四川成都610041
国内会议
成都
中文
84-84
2012-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）