二元光学元件的制作及其误差分析

摘要：

该文详细介绍了二元光学元件制作的光刻技术和一些新的制作工艺，包括薄膜沉积法、激光束或电子束直接写入法和准分子激光加工法。针对用于CO<,2>激光器模式优化元光学反射镜，作者分析了元件制作误差，包括掩模对准误差、台阶刻蚀深度误差和阶刻蚀宽度误差对谐振腔振荡模式的影响。

关键词： 二元光学 光刻 掩模 误差

作者: 徐永明 李立

作者单位: 中国电信总局传输维护处 湖北电信程局

会议类型: 国内会议

会议名称: 展望21世纪初光电技术发展趋势研讨会

会议地点: 海口

会议语种:中文

页码: 176～182

在线出版日期: 2000-01-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）