ZrW2O8薄膜的制备及热膨胀性质

摘要：

　　本文采用溶胶-凝胶技术结合快速退火工艺在Pt(111)/Ti/SiO2/Si(100)基片上制备ZrW2O8薄膜，并研究了退火温度、退火时间对薄膜结构，形貌的影响。利用X射线衍射(XRD)及扫描电镜(SEM)对薄膜的物相及表面形貌进行表征；利用变温XRD研究薄膜的热膨胀性能。薄膜的变温XRD结果表明，在室温～700℃温度范围内，随着温度的升高，(211)和(310)晶面间距变小，其热膨胀系数为负值，而(332)晶面间距随温度升高变大，显示出正膨胀性质。这表明ZrW2O8薄膜材料的热膨胀性能是各向异性的。

关键词： 薄膜材料 制备工艺 热膨胀性质 结构表征

作者: LI Gang 李刚 LIU Ning 柳宁 LIU Haihong 刘海宏 LI Lin 李琳 WANG Li-na 王莉娜 WANG Li-bin 王立斌

作者单位: College of Chemistry and Chemical Engineering, Harbin Normal University,Heilongjiang Harbin 150025, 哈尔滨师范大学化学化工学院,黑龙江哈尔滨,150025

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十一届全国X射线衍射学术大会暨国际衍射数据中心(ICDD)研讨会

会议地点: 长春

会议语种:中文

页码: 231-236

在线出版日期: 2012-07-27（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）