Influence of pressure and power on crystallographic orientation of AlN thin films

作者: Wang Jun Zuo Sibin Wang Shunchong

作者单位: Research & Development Center for Functional Crystals, Beijing National Laboratory for Condensed Mat Research & Development Center for Functional Crystals, Beiji

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十一届全国X射线衍射学术大会暨国际衍射数据中心(ICDD)研讨会

会议地点: 长春

会议语种:英文

页码: 283-284

在线出版日期: 2012-07-27（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）