电子工业用9N气体纯化器的研究与应用
气体纯化技术对于保证半导体行业发展至关重要,本文分析了半导体行业对气体的需求指标及现有气体纯化工艺的局限。介绍了采用催化、吸附、吸气剂等技术联用,对氮气、氢气、氩气等进行超纯气体纯化的系列新工艺。该系列工艺配合使用洁净管道、管件、阀门、洁净施工,所生产出的纯化器产气纯度可达8N以上,各种有害杂质均小于1ppb,确定了所开发的氮气、氢气、氩气纯化工艺产气指标、抗波动能力及适用性均可满足半导体行业发展需求。
半导体行业 气体纯化 技术标准
侯鹏 付启贵 赵霖 邱长春
大连中鼎化学有限公司, 辽宁大连116000
国内会议
武汉
中文
72-75
2012-09-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）