磁控溅射制备纳米Ni-Ti薄膜工艺研究

摘要：

　　纳米Ni-Ti薄膜在微电子和微器件制造领域中具有广泛的应用前景,为了得到高质量的纳米薄膜。本文对直流磁控溅射法制备Ni-Ti薄膜工艺进行了研究。采用单晶硅和玻璃两种基体材料,并在不同的基体温度、晶化温度、溅射功率等条件下制备薄膜。之后对薄膜进行了XRD,SEM分析,分析结果表明,薄膜成分、厚度、表面形貌、致密度与溅射功率、基体温度、晶化温度、基体材料密切相关。并根据实验结果给出优化的纳米Ni-Ti薄膜制备工艺。

关键词： 纳米薄膜 镍-钛合金 磁控溅射技术

作者: 傅宇东 王刚 刘臣 孟祥龙

作者单位: 哈尔滨工程大学 150001 哈尔滨工业大学 150001

会议类型: 国内会议

会议名称: 2008哈尔滨市科学技术学术月

会议地点: 哈尔滨

会议语种:中文

页码: 50-53

在线出版日期: 2008-09-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）