0.13μm高可靠标准单元库版图的分析与设计

摘要：

本文针对0.13μm工艺下标准单元版图的可靠性设计进行了研究,分析了一些增强可制造性、提高产品良率的版图设计方法.文章利用该方法设计了高可靠性的标准单元库,并对单元的各项性能进行测试.模拟结果表明,在增强可靠性的同时也满足了性能的要求.

关键词： 标准单元 可靠性 可制造性 良率 设计规则

作者: 杨博 马卓 韩龙 陈书明

作者单位: 国防科技大学计算机学院 长沙 410073

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十三届计算机工程与工艺会议(NCCET09’)

会议地点: 西安

会议语种:中文

页码: 31-32

在线出版日期: 2009-08-17（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）