LED用蓝宝石单晶衬底抛光工艺的研究

摘要：

本论文研究了蓝宝石抛光初始阶段抛光速率与下压力、抛光转速两项工艺参数的关系；分析了抛光过程中摩擦系数的动态变化规律.结果表明,抛光速率大致正比于下压力,即随压力增大抛光速率线性加快；而抛光转速对抛光速率则影响不大.摩擦系数动态监测表明,随着抛光的进行,动摩擦系数缓慢增加.

关键词： sapphire CMP friction coefficient nano-silica slurry

作者: 胡晓凯 宋志棠 刘卫丽 汪海波 张泽芳 王良泳

作者单位: 中科院上海微系统与信息技术研究所,信息功能材料国家重点实验室,纳米技术研究室,上海200050

会议类型: 国内会议

会议名称: 2008年上海纳米科技与产业发展研讨会

会议地点: 上海

会议语种:中文

页码: 224-229

在线出版日期: 2008-11-27（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）