磁控溅射镀膜技术分析

摘要：

介绍磁控溅射镀膜系统工作原理和磁控溅射镀膜技术研究进展.

关键词： Magnetron Sputtering Principle Balanced magnetron sputtering Pulse magnetron sputtering

作者: 胡春莉

作者单位: 格兰特工程玻璃(中山)有限公司 广东中山 528437

会议类型: 国内会议

会议名称: 2008年中国玻璃行业年会暨技术研讨会

会议地点: 广州

会议语种:中文

页码: 309-313

在线出版日期: 2008-09-07（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）