表面修饰F法改进α-Bi2O3光催化活性的研究
(0) 光催化技术在能源和环境领域都有着重要的应用前景，然而，传统的用于光催化剂的半导体氧化物如TiO2等有着较宽的带隙，不能充分地利用占太阳能43％的可见光，从而限制了它的应用。Bi2O3、WO3等深价带窄带半导体氧化物的发展能够在不牺牲价带光生空穴氧化能力的同时实现可见光的响应，打破了这种局限。<br> 本文通过水热法成功地将F嫁接在了α-Bi2O3的表面，而且对有机染料甲基橙(MO)的降解速率有明显的提高。同时，我们还通过一系列的物理化学特性如·OH和H2O2的测量来证明F原子的嫁接在改进α-Bi2O3光催化活性的过程中所起的重要作用。
α-Bi2O3材料 光催化活性 染料降解 表面修饰F法 水热法
蒋海英 程琨 孙文彬 刘泾泾 林隽
中国人民大学理学院化学系 北京 100872
国内会议
武汉
中文
174-174
2012-10-26（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）