化妆水中地塞米松的光稳定性研究
利用超高效液相色谱-多级质谱联用技术(UHPLC-MSn),对化妆水中违禁添加的地塞米松光催化代谢物进行研究。结果发现,化妆水中的地塞米松,在自然光的照射下(分别照射0,24,48,72,96,120,144 h),发生了氧化、还原、脱水和羟基化等降解反应。并且地塞米松光催化代谢产物含量随光照时间的延长而增加,光照120 h后,降解反应达到平衡,含量不再变化。
地塞米松 高效液相色谱 质谱法 化妆水 光降解
张斐飞 曹小吉 叶学敏 陈娇瑜 沈凌晓 郑乐斌 江南 莫卫民
浙江工业大学化学工程与材料学院,杭州 310014 浙江工业大学分析测试中心,杭州 310014 浙江工业大学化学工程与材料学院,杭州 310014;浙江工业大学分析测试中心,杭州 310014
国内会议
上海
中文
373-374,378
2012-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）