双会切磁场大回旋电子注产生的研究
研究了双会切磁场中大回旋电子注产生的机理。通过拉格朗日方程求解了电子注的运动方程及沿轴的角向速度、引导中心半径、拉莫尔半径等参量表达式。分析了双会切磁场中电子注参量的影响因素,得到了用于改进双磁会切电子枪性能的一般性结论。
大回旋电子注 双会切磁场 拉格朗日方程 角向速度 拉莫尔半径 电子枪性能
邹峰 薛谦忠 刘濮鲲
中国科学院电子学研究所微波器件与技术研究发展中心
国内会议
北京
中文
764-767
2006-09-01(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)