覆膜浸渍钡钨阴极离子斑扫描电镜分析

摘要：

　　采用扫描电镜及X射线能谱仪对覆膜阴极的离子斑进行了分析。分析表明，阴极离子斑中心部分表面粗糙，原覆膜(Os膜)已被完全溅射掉，裸露出的钨颗粒相互间的连接变得十分松散；离子斑周边原覆膜(Os膜)仍保留一部分，但Ba和O的含量极低。进一步分析表明，离子轰击不仅使离子斑区域贵金属膜受损，同时使该区域Ba-O键的含量大幅度降低，从而导致该区域及整个阴极的发射出现明显下降。

关键词： 覆膜浸渍 钡钨阴极 离子斑 扫描电镜 蒸发 阴极发射

作者: 阴生毅 张洪来 张永清

作者单位: 中国科学院电子学研究所微波器件与技术研究发展中心

会议类型: 国内会议

会议名称: 中国科学院电子学研究所2006年青年学术交流会

会议地点: 北京

会议语种:中文

页码: 411-413

在线出版日期: 2006-09-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）