UHP气体系统中水分杂质的特性及仪表使用

摘要：

　　现代半导体工厂和特气工厂使用复杂的气体输送系统(GDS)用来将UHP气体从大宗气体纯化器输送到工艺过程之中。一般来讲，这些GDS系统都配备有连续质量控制系统(CQC系统)用于保证输送到工艺流程中的气体所含杂质的水平不超过正常的限度，从而提高工艺的产出。随着UHP气体的等级越来越高，也对高纯气体的杂质的分析提出了越来越高的要求。

关键词： 高纯气体 水分杂质 质量控制 工艺流程 气体输送系统

作者: 张大伟

作者单位: 英国仕富梅集团有限公司中国区,上海闵行元山路88弄9号楼201108

会议类型: 国内会议

会议名称: 全国特种气体第十六次年会

会议地点: 广西北海

会议语种:中文

页码: 158-161

在线出版日期: 2012-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）