共沉淀掺杂制备ZnO压敏陶瓷粉体的

摘要：

　　从多种离子反应平衡角度，对氨法共沉淀过程进行了理论分析，并在此基础上提出了数学模型和计算方法。对ZnO压敏电阻多元粉体共沉淀反应中的既能与NH3也能与OH-络合的金属离子(A类离子)和只能与OH-络合的金属离子(B类离子)的单体沉淀、共沉淀。以及A、B两类离子的共沉淀进行了理论分析和模拟计算，得到了沉淀反应中的沉淀反应系数、沉淀率、络合反应系数与pH值和氨水加入量之间的关系。

关键词： 氧化锌 压敏电阻 共沉淀 数学模拟 压敏陶瓷粉体

作者: 孙丹峰 季幼章

作者单位: 中国科学院等离子体物理研究所博士 中国科学院等离子体物理研究所,合肥,230031

会议类型: 国内会议

会议名称: 中国电子学会敏感技术分会第十五届电压敏学术年会

会议地点: 大连

会议语种:中文

页码: 76-79,89

在线出版日期: 2008-09-20（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）