氧化铝铝/氮化硅叠层钝化晶体硅表面的特性研究

摘要：

原子层沉积(ALD)方法制备的氧化铝在不同掺杂类型和浓度的单晶硅上都有着良好的钝化作用.我们用热型ALD 方法沉积氧化铝薄膜,研究了不同厚度氧化铝对单晶硅表面的钝化效果；并对叠层结构(氧化铝/氮化硅双层薄膜)的钝化效果及反射率进行了研究,讨论了叠层钝化膜制备过程中的退火步骤的必要性.

关键词： 原子层沉积 叠层钝化 反射率 表面固定电荷密度

作者: 赵彦 周春兰 汤叶华 周肃 王文静

作者单位: 中国科学院电工研究所,中国科学院太阳能热利用及光伏系统重点实验室,北京 ,1000190

会议类型: 国内会议

会议名称: 第12届中国光伏大会暨国际光伏展览会(CPVC12)

会议地点: 北京

会议语种:中文

页码: 1-4

在线出版日期: 2012-09-05（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）