磁控溅射CdS 薄膜的性质研究
本文采用射频磁控溅射的方法在石英衬底上制备CdS 薄膜,并研究讨论了制备条件对薄膜结构、光学、电学等方面的影响.结果表明,室温条件下,沉积时间对样品结构基本无影响,均呈现CdS 立方结构(111) 的最强峰；光学禁带宽度随沉积时间呈先增后降的趋势,并在30min 出现2.41 eV 的最大值.衬底温度发生变化时,样品的结构几乎不发生变化,出现立方相(111)方向的择优取向；且随着衬底温度的升高其禁带宽度变小,在200℃时达到2.34eV的最小值.无论沉积时间及衬底温度的变化,所有样品均显示为n 型,但其强度随着沉积时间增长而减弱,随着衬底温度的升高出现先减后增的趋势.
磁控溅射 CdS 沉积时间 衬底温度
冷丹 曹五星 武莉莉 张静全 李卫 张艺多 冯良桓 黎兵
四川大学材料科学与工程学院,610064
国内会议
北京
中文
1-4
2012-09-05（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）