纳米柱状SiO2 减反射薄膜的研究

摘要：

以硅片和石英片为衬底,SiO2 为膜料,采用电子束斜向沉积的镀膜方法制备纳米柱状SiO2 减反射薄膜.通过测试镀膜前后衬底的反射率来验证纳米柱状SiO2 薄膜的减反射效果.利用扫描电子显微镜(SEM)观察薄膜的表面形貌并测量薄膜厚度.根据实验测试结果,讨论不同膜厚纳米柱状SiO2 薄膜的减反射性能,并对减反射性能与薄膜厚度之间的关系进行了研究.实验结果表明,当蒸发速率为2(A)/s,镀膜时间在25 分钟左右,纳米柱状SiO2 薄膜的减反射性能较好.

关键词： 纳米柱状SiO2薄膜 减反射膜 电子束蒸镀 太阳能电池

作者: 吴建涛 娄朝刚 王嵘 孙少凌

作者单位: 电子科学与工程学院,东南大学,江苏南京 ,210096

会议类型: 国内会议

会议名称: 第12届中国光伏大会暨国际光伏展览会(CPVC12)

会议地点: 北京

会议语种:中文

页码: 1-7

在线出版日期: 2012-09-05（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）