硅青铜类光谱分析用控制样品的研制
根据硅青铜控制样品的成分设计，采用合理的配料原则、加料顺序、熔炼及挤制工艺， 研制出硅青铜光谱分析用控制样品共2 个样号。经国内外6 家实验室采用电感耦合等离子体原 子发射光谱法、原子吸收光谱法、分光光度法、滴定法等进行分析，该控制样品的均匀性、分 析精度良好。经同类铜合金标准样品稳定性考察，稳定性良好，有效期可定为15 年。该控制样 品可适用于硅青铜QSi1-3 和某镍硅青铜牌号等牌号中主量元素及杂质元素的生产检验,具有广 泛的适用性。
硅青铜 光谱分析 控制样品 研制
刘光辉 王怡 裴敬国 孙岩 焦健
中铝洛铜质量管理中心,河南洛阳,471039
国内会议
兰州
中文
240-242,246
2012-07-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）