Au、U薄膜的PLD沉积技术研究

摘要：

采用脉冲激光溅射沉积的方法,在Si表面沉积了金和贫铀薄膜.通过SEM和白光干涉分析结果表明,PLD沉积法能够制备出粗糙度小于1 nm、表面光滑、致密、厚度一致性较好的Au、U薄膜.PLD的关键在于减少薄膜表面液滴,这可通过增大靶基距并减小激光能量实现.同时,适当升高基片温度亦有利于减少液滴,但会增加U薄膜中的氧含量.

关键词： gold uranium pulsed laser deposition

作者: 周萍 吕学超 张永彬 赖新春 郎定木 李宗亮 蒋春丽

作者单位: 表面物理与化学重点实验室,四川江油,621907

会议类型: 国内会议

会议名称: 中国核学会2011年年会

会议地点: 贵阳

会议语种:中文

页码: 1-5

在线出版日期: 2011-10-11（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）