钕铁硼晶界扩散型磁体的发展

摘要：

　　近几年，剩磁和矫顽力双优磁体得到了快速的发展，用表面晶界扩散工艺制备的磁体，达到很高水平，永磁因子F=”BH”max+Hcj=70-80，本文介绍了表面晶界扩散工艺的原理，磁体显微结构和几种晶界扩散工艺方法。

关键词： 钕铁硼永磁体 晶界扩散工艺 显微结构 产品开发

作者: 陈虞才

会议类型: 国内会议

会议名称: 2012中国磁性材料与应用产业发展论坛

会议地点: 上海

会议语种:中文

页码: 67-74

在线出版日期: 2012-05-28（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）