大口径反射元件环形抛光工艺
本文根据环形抛光的加工特点，研究了大口径反射元件的环形抛光加工工艺。在4m环抛机上进行了610mm×440 mm×85mm的大口径反射元件加工工艺实验，研究了修正盘及工件盘转速与元件面形的关系、修正盘及工件盘位置与元件面形的关系、沥青盘槽形与元件面形的关系。研究结果表明，通过对修正盘及工件盘转速、修正盘及工件盘位置、沥青盘槽形等工艺参数的优化控制，能够得到大口径反射元件面形的高效收敛，元件最高面形精度优于λ／6(λ=632.8 nm)，验证了加工工艺的有效性。
大口径反射元件 环形抛光 加工工艺 参数修正 优化控制
谢磊 马平 刘义彬 游云峰 鄢定尧
成都精密光学工程研究中心，成都 610041
国内会议
成都
中文
1687-1690
2011-11-11（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）