铜基NiCr系太阳光吸收薄膜制备及性能分析
基于等效媒质理论设计了NiCr四层渐变膜系。以4：1的NiCr合金靶材，氧气和氮气为反应气体，氩气为工作气体，用磁控反应溅射法制备蓝色NiCr系太阳能光谱选择性吸收薄膜。测试分析薄膜成分、微观结构、厚度、吸收比和发射率对薄膜性能的影响。测试结果表明两层吸收膜的吸收比大于单层吸收膜；单层吸收膜的吸收比随填充因子的增大而增大；当单层吸收膜的填充因子在两层吸收膜的填充因子之间时，两层吸收膜的发射率小于单层吸收膜；两层吸收膜的吸收比随减反射层厚度的增大先增大后减小，发射率则一直增大。为多层铜基NiCr系阳光吸收膜磁控溅射沉积制备工艺提供了理论依据。
镍铬薄膜 磁控反应溅射工艺 光吸收性能 填充因子
陈长琦 裘一冰 王国栋
合肥工业大学机械与汽车工程学院真空科学技术与装备研究所 合肥 230009
国内会议
南昌
中文
669-673
2011-08-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）