硅碳氧薄膜光学性能研究
(0) 硅碳氧(SiCO)薄膜是一种三元玻璃状化合物材料，具有热稳定性好、能带宽、折射率大、硬度高等特性，是一种具有潜在应用价值的新颖光学薄膜材料。本文采用射频磁控溅射技术在Si(100)及K9玻璃上制备了硅碳氧薄膜。利用椭圆偏振仪、紫外／可见／近红外光度计及x射线光电子能谱测试表征了薄膜的光学性能及薄膜组分。研究发现，通过改变基片温度、工作压强及溅射功率等工艺参数，所制备的硅碳氧薄膜均具有高折射率(大于1.80)，相比之下，K9玻璃基硅碳氧薄膜的折射率有着更大的变化范围(1.84～2.20)。通过对K9玻璃基硅碳氧薄膜的光学透射性能研究表明，以硅碳氧陶瓷作为溅射靶材，采用射频磁控溅射技术在K9玻璃基上可以制备出，在可见光及近红外区域有着较好光学透射性能，平均透过率能到达83％的硅碳氧薄膜。
硅碳氧薄膜 射频磁控溅射技术 光学性能
李晨 陈焘 王多书 张平
兰州空间技术物理研究所表面工程技术重点实验室 兰州 730000
国内会议
南昌
中文
732-735
2011-08-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）