诱导磁场对化学沉积Co-Ni-P薄膜磁性能的影响
采用化学湿法沉积技术制备了CoNiP磁性薄膜，研究了施镀过程中的诱导磁场对CoNiP薄膜磁性能和结构的影响。研究结果表明，随着施加诱导场强度的增加，CoNiP薄膜的矫顽力先增加，然后减小；当磁场强度为1300 Oe时，薄膜的矫顽力达到了751.7 Oe，比未施加磁场时提高了约28％。X射线衍射结果表明，Co-Ni-P薄膜晶粒沿磁场方向生长，其c轴沿薄膜的轴向形成了很强的Co(002)织构。扫描电子显微镜表面形貌观察表明，随着磁场强度的增加，胞状颗粒逐渐增多，晶粒尺寸变小，颗粒之间结合紧密。诱导磁场对CoNiP薄膜的磁性能有良好的促进作用，这为进一步开发高性能的磁电传感器奠定了一定基础。
钴基薄膜材料 诱导磁场 化学沉积法 磁性能
王海成 龚占双 王立锦 于广华
北京科技大学材料科学与工程学院 北京 100083
国内会议
南昌
中文
736-739
2011-08-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）