氩气流量对四面体非晶碳膜结构和摩擦性能的影响
利用自主研制的45°单弯曲阴极电弧沉积系统，通过改变Ar流量(2，5以及10ml／min)，在p型(100)硅基底上制备了四面体非晶碳膜。借助表面轮廓仪测定薄膜厚度和粗糙度变化；采用X射线光电子谱获得薄膜微结构信息，利用残余应力仪和摩擦磨损试验机测定薄膜的内应力和摩擦学性能。实验结果表明：随Ar流量增加，薄膜的沉积速率降低，表面趋于光滑；薄膜中sp3含量由2ml／min时的68％下降至10ml／min时的55％；薄膜应力值随Ar流量的增大而减小，在10ml／min处取得最小值；不同Ar流量条件下所制备薄膜的摩擦系数在0.024～0.045之间，且随Ar流量增加而增大。
四面体非晶碳膜 电弧沉积系统 氩气流量 结构特征 摩擦性能
蔡建 杨巍 柯培玲 汪爱英 方勇
宁波市海洋防护材料技术与工程技术重点实验室 宁波 315201 浙江大学医学院附属部逸夫医院 杭州 310016
国内会议
南昌
中文
740-745
2011-08-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）