超高真空脉冲激光沉积Au、U及Au/U/Au复合膜研究
为提高多层膜的激光-X光转换效率,以及辐射的均匀性和对称性,需要严格控制薄膜中的氧含量,并要求表面光洁、界面清晰、厚度一致性好。本研究中,采用本底真空4.5×10-7Pa的脉冲激光沉积(PLD)系统以降低铀薄膜中的氧含量。实验中首先在单晶si基片上制备单层的Au和U薄膜,获得优化的脉冲激光沉积工艺参数后,交替溅射Au靶和U靶沉积了Au/U/Au复合膜,并对薄膜的厚度、表面形貌及成份进行了分析表征。
金属薄膜 脉冲激光沉积系统 氧含量 性能分析
周萍 吕学超 张永彬 赖新春 郎定木 陆雷 肖红 赵天明
中国工程物理研究院 四川绵阳,621900 表面物理与化学重点实验室 四川 江油 621907
国内会议
云南腾冲
中文
47-48
2011-07-01(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)