衬底材料对Sc膜形貌、结构的影响
钪Sc氢化物具有极低的离解平衡压，在高温储氢方面具有极为明显的优势。为了更好地指导后期吸氘实验的进行，有必要详细地研究镀膜过程及工艺参数对Sc膜的影响。在众多的镀膜方法中，电子束沉积法因对衬底无损伤、沉积速率快且成本低而备受青睐。本文采用电子束沉积方法在沉积速率为50±2.5(A)/s时，在粗糙Mo、光滑Mo(RMS=0.836nm)及单晶Si(111)，Si(110)上沉积了Sc膜，并采用XRD、SEM对其进行了分析。各条件下Sc膜的平均厚度为2μm。
钪薄膜 衬底材料 结构分析 工艺参数
吴清英 罗顺忠 陈静 龙兴贵 邴文增
中国工程物理研究院核物理与化学研究所 四川绵阳 621900
国内会议
云南腾冲
中文
51-52
2011-07-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）