真空热压技术制备LiH薄膜

摘要：

　　氢化锂(LiH)是重要的热核材料。其具有密度低、原子序数低等性质，可作为低能量X光散射及输运材料、轻质中子屏蔽或减速剂等。本文采用真空热压技术制备LiH薄膜。真空热压技术是在高真空环境下，同时对样品进行加热和加压，获得厚度小于100μm的氢化锂薄膜。

关键词： 氢化锂薄膜 真空热压技术 工艺参数 性能分析

作者: 谢军 邢丕峰 杨蒙生 张林 郑凤成 易泰民 李朝阳

作者单位: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 四川 绵阳 621900

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十一届全国核靶技术学术交流会

会议地点: 云南腾冲

会议语种:中文

页码: 152-154

在线出版日期: 2011-07-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）