制备工艺对热压Y-α-SoAlON陶瓷微结构及光学性能的影响
采用两步热压烧结(Hot Prcssing，HP)方法制备了高致密度的Y-α-SiAlON(Y1410，即m=1.4，n=1.0)陶瓷，研究了升温速率、烧结时间和驻留温度对陶瓷物相组成、微观结构以及光学性能的影响。结果表明：SiAlON陶瓷的相组成不受升温速率的影响，升温速率较快(20℃/min)时陶瓷的晶粒尺寸相对较小、分布较均齐、透过率相对较高，1.1mm厚样品最大近红外透过率为50.2％，比升温速率为10℃/min的陶瓷高8.O％；烧结时间较短(1 h)时陶瓷的晶粒尺寸相对较小，透过率较高，1.1mm厚样品最大近红外透过率为43.6％，而当烧结时间为2 h时陶瓷中有新相生成，且微结构均匀性较差，其最大透过率比烧结时间为1 h的低8.0％；较低的驻留温度易促进β-SiAlON形成和柱状晶发育，对提高SiAlON陶瓷透光性不利。
光学陶瓷 制备工艺 微观结构 光学性能
单英春 徐久军 李江涛 黄秋风 张丽 帖少东
大连海事大学，辽宁大连 116026 中国科学院理化技术研究所，北京 100101 中国科学院福建物质结构研究所，福建福州 350002
国内会议
沈阳
中文
380-383
2008-09-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）